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真空蒸镀

● 原理简单，操作便当，沉积参数易于控制
● 薄膜纯度高，可用于薄膜性质研究
● 沉积速率快、效率高，可多块同时蒸镀
● 适用质料较多
● 是PVD工艺中本钱最低的

薄膜与衬底的附着性相对较差，工艺重复性不太理想

真空蒸镀用于高、低折射率质料的光学干预镀膜、镜面镀膜、装饰镀膜、软包装质料上的渗透阻隔膜、导电膜、防腐化涂层等。沉积金属时，真空蒸镀有时也称为真空金属化。

溅射沉积

● 薄膜与衬底附着性好
● 薄膜纯度高
● 致密性好、无气孔
● 适用于大大都固体质料（特别是熔点高的质料），质料适用规模大
● 溅射镀工艺可控性和重复性好，便于工业化生产

● 设备庞大，沉积参数控制较难
● 沉积速率较低
● 沉积偏向性不如真空蒸镀
● 溅射靶材通常较为腾贵
● 溅射沉积历程中，需仔细控制气体身分，避免靶材中毒

溅射沉积广泛用于在半导体质料上沉积薄膜金属化、建筑玻璃上的涂层、聚合物上的反射涂层、存储介质的磁性薄膜、玻璃和柔性网上的透明导电薄膜、干膜润滑剂、耐磨涂层在工具和装饰涂层上。

离子镀

● 薄膜与衬底附着性好
● 致密性高
● 耐磨耐腐化性好
● 质料适用规模大

● 有许多加工变量需要控制
● 通常很难在衬底外貌获得均匀的离子轰击，导致薄膜特性爆发变革
● 衬底可能加热太过
● 轰击气体可能会融入生长的薄膜中

离子镀用于在庞大外貌上沉积复合质料的硬质涂层、附着金属涂层、高密度光学涂层和保形涂层。使用离子镀在航空航天部件上沉积铝膜称为离子气相沉积。